氮氣控制系統 (氧濃度)

氣體濃度調節系統, 氧氣濃度監控系統 / 提供掛畫架、展示櫃、環境控濕設備的整合解決方案。

氮氣控制系統 (氧濃度) - 氮氣控制系統,包含氧氣濃度監控、流量調節及濕度控制,確保穩定環境控制。
  • 氮氣控制系統 (氧濃度) - 氮氣控制系統,包含氧氣濃度監控、流量調節及濕度控制,確保穩定環境控制。

氮氣控制系統 (氧濃度)

N2HTO

氣體濃度調節系統, 氧氣濃度監控系統

氮氣控制系統(氧濃度)專為精確控制氧氣濃度而設計,能有效降低氧氣含量,確保儲存或製程環境中維持所需的氮氣濃度。此系統特別適用於對氧氣濃度有嚴格要求的行業,如半導體製程、電子組裝、生物技術及醫療設備等。藉由精密的氣體控制與高效的過濾系統,確保工作環境的穩定性與產品質量。系統可提供即時監測與異常警報功能,確保在氧氣濃度超出設定範圍時及時反應,防止生產問題或設備損壞。

產品特性
  • 內建記憶體可儲存最多11,900筆溫濕度記錄。
  • 可設定1至240分鐘之間的資料收集間距。
  • 支援設定年/月/日/時/分等詳細時間。
  • 可透過RS232接口將數據下載至電腦,並支援Excel、PDF等格式查看。
  • 同時顯示溫濕度曲線圖及數據表格。
  • 提供溫濕度偏移校正及面板鎖定功能,操作更加靈活。
  • 配備進氣離子噴嘴,有效消除靜電,避免粉塵附著,確保環境潔淨並保護儀器與物料。
  • 可設定溫濕度的上限值和下限值,並在偏離範圍時啟動警報。
  • 提供閃爍警示燈或蜂鳴器警示,確保異常情況即時反應。
  • 傳感器可與顯示器分離,最長可達150公尺進行偵測。
應用場域
  • 電子製造業:在製造半導體、液晶顯示器(LCD)、光伏產品等高精密電子產品的過程中,氧氣濃度的控制至關重要,過多的氧氣可能會對材料造成氧化或損壞,影響產品質量和性能,氮氣控制系統能夠提供一個穩定的低氧環境,減少氧化和靜電問題。
  • 化學製程:許多化學反應對氧氣濃度非常敏感,過高的氧氣濃度可能會干擾反應或導致不希望的副產物生成,氮氣控制系統在這些反應過程中提供穩定的氮氣控制,有效抑制氧氣的影響,保持化學反應的穩定性和高效性。
  • 醫療領域:在一些醫療設備和藥品製造過程中,需要控制氧氣濃度以保持產品的穩定性,例如某些藥物的製造過程中,過多的氧氣可能會改變其化學結構或降低有效性,氮氣控制系統可提供低氧環境,保護藥品質量。
  • 金屬冶煉與焊接:在金屬冶煉、焊接和熱處理過程中,氮氣被用來替代氧氣,防止金屬表面氧化或鍍層損壞。例如,氮氣可以用於鋼鐵或鋁合金的熱處理過程中,以避免過多的氧氣對金屬表面產生不利影響。
  • 光學製造:在光學鏡片和激光設備的製造中,氧氣濃度的控制也是關鍵。氮氣可用來創造低氧環境,防止鏡片表面被氧化,確保光學元件的高品質和穩定性。
  • 航空航天:氮氣控制系統在航天器的環境控制中扮演重要角色,特別是在航天器的氣體環境中,為了防止氧氣對航天器內部設備造成損害,通常會使用氮氣來替代氧氣,創造穩定的工作環境。
  • 燃料電池技術:在燃料電池的研究和製造中,控制氧氣濃度對於反應效率和壽命至關重要,氮氣控制系統能確保合適的氧氣環境,提升燃料電池的性能和使用壽命。
  • 實驗室與研究:在一些精密實驗和研究過程中,需要創造低氧環境來進行特殊測試,如材料測試、催化劑研究等,氮氣控制系統能夠為這些實驗提供穩定的氮氣環境,避免氧氣干擾實驗結果。

氮氣控制系統在這些應用中主要用來降低或消除環境中的氧氣濃度,防止氧化、變質或其他與氧氣相關的負面影響,確保產品質量、提高過程穩定性,並保護設備免受損害。

產品規格
型號氮氣控制系統 (氧濃度)
N2HTO
尺寸 (mm)W315 x H337 x D220mm
顯示螢幕數字2.3" LED數字
濕度控制範圍1%RH ~ 60%RH可調
濕度顯示範圍0.0%RH ~ 99.9%RH
溫度顯示範圍0.0°C ~ 60.0°C
溫度精準度± 1°C (0 ~ 60°C)
濕度精準度在 25°C ± 3%RH (1 ~ 60%RH)
氧濃度顯示範圍0.1% ~ 25%
氧濃度精準度± 0.2% (0 ~ 25%)
進氣壓力氮氣,3kg / cm² ~ 7kg / cm²
電源110V ~ 220V / 50Hz ~ 60Hz
耗電量25W
相片集
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博士門 氮氣控制系統 (氧濃度)介紹

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