9インチレティクルポッドストレージラック
BM1307
9インチフォトマスクオープンシェルフストレージ
BOSSMEN 9″ レティクルポッドストレージラックは、フォトマスクポッドを収納するために特別に設計されたオープンデザインを特徴としています。 この製品は湿度制御や窒素充填を含まないため、環境要件が低い保管ニーズに適しています。 9インチフォトマスクポッドストレージラックは効率的なスペース管理を提供し、フォトマスクポッドへのアクセスを容易にします。 追加のガスや湿度制御システムを必要とせず、一般的な保管目的に最適です。
特徴
- SUS304ステンレス鋼製:1.2mm厚のSUS304ステンレス鋼で構成されており、高い耐久性と強度を提供します。これにより、さまざまな環境での製品の安定性が確保され、腐食や損傷を効果的に防ぎ、全体的な安全性が向上します。
- 効率的なストレージデザイン:各列には30のステンレススチール製の仕切りがあり、最大120個のフォトマスクポッドを収納できるため、フォトマスクへのアクセスと整理がより便利になり、作業効率が向上し、整然とした収納が確保されます。
- 高負荷ホイールと安定性設計:重-dutyキャスターとブレーキホイールを装備し、より大きな重量を支えることができます。さらに、高負荷調整可能なレベリングフットにより高さを調整でき、キャビネットの安定性を高め、柔軟な操作体験を提供し、さまざまな環境での使用に適しています。
アプリケーション
- 高度にカスタマイズされたデザイン:フォトマスクキャビネットは、特定のニーズに基づいて異なる数量のフォトマスクやキャビネット構造に対応するようにカスタマイズでき、さまざまな規模や生産環境の要件を満たすための最適な収納ソリューションを提供します。
- 作業効率の向上:フォトマスクキャビネットは便利な収納スペースと操作設計を提供し、フォトマスクへの迅速かつ簡単なアクセスを可能にし、作業効率を向上させます。
- 信頼性と長持ちする保護:フォトマスクキャビネットは、優れた耐久性と強度を備えた頑丈な構造を特徴としており、長期的な信頼性と保護を保証します。
製品仕様
| モデル | オープンタイプ9インチレティクルストレージキャビネット BM1307 |
|---|---|
| 外形寸法 (mm) | W1300 × H2100 × D350 (キャスターを含む) |
| 内部寸法 (mm) | 各スロット: W249 × H50 × D350 |
| ストレージアイテム | 9インチレティクルポッド |
| 容量 | 56レティクルポッド |
- ギャラリー
- 関連製品
マスクストレージ窒素キャビネット
BM1133-2
半導体およびオプトエレクトロニクス用途向けに設計されたこのマスクストレージ窒素キャビネットは、フォトマスクを汚染、静電気、粒子から保護するクリーンで低湿度の窒素環境を提供します。
詳細ナノスケールレチクルポッド窒素キャビネット
BM1238、BM1273
先進的な半導体およびEUVフォトマスクの保管用に設計されたこのキャビネットは、クラス1のクリーンで低湿度の窒素環境を提供し、マスクを汚染、損傷、酸化から保護します。
詳細FFUおよびULPAフィルター付きレティクルポッド窒素保管キャビネット
BM1277
レティクルポッド窒素ストレージキャビネットは、FFUおよびULPAフィルターを備えており、半導体およびフォトニクスのクリーンルームでレティクルとマスクを汚染や酸化から保護するように設計されています。ULPAフィルtration、FFUエアフロー、そしてクリーンで乾燥した静電気のない環境を維持するための連続的な窒素パージを特徴としています。
詳細マルチパーパスレチクルポッド窒素貯蔵キャビネット
BM1296-2
フォトマスクは、半導体製造において回路パターンをウェハに転写するために不可欠です。フォトマスクに欠陥があると、その欠陥がウェハ全体に複製され、歩留まりに直接影響を与えます。パターンの寸法が縮小するにつれて、フォトマスクは粒子や化学汚染に対してますます敏感になります。 クリーンで制御された窒素貯蔵環境は、長期的なフォトマスクの安定性を維持するために重要であり、汚染、酸化、劣化を減少させるのに役立ちます。 BOSSMEN...
詳細粒子フリーのレチクルポッド窒素キャビネット
BM1305
粒子フリーのレチクルポッド窒素キャビネットでは、戻り空気システムがキャビネット内の空気を継続的に循環させ、粒子や汚染物質をフィルタリングします。これにより、フォトマスクが清潔でほこりのない環境で維持され、損傷や汚染のリスクが効果的に低減され、安定した品質が保たれます。
詳細9インチレティクルポッドストレージラック
BM1307
BOSSMEN 9″ レティクルポッドストレージラックは、フォトマスクポッドを収納するために特別に設計されたオープンデザインを特徴としています。...
詳細粒子フリーのレチクルポッド窒素キャビネット
BM1324-2
粒子フリーのレチクルポッド窒素キャビネットは、クリーンで制御された環境でフォトマスクを最適に保護します。窒素充填を使用して湿気と酸化を防ぎ、フォトマスクの品質を保持し、寿命を延ばします。ダストフリーのデザインは、汚染物質のない保管スペースを確保します。 RFID技術を搭載したキャビネットは、フォトマスクの簡単な追跡と管理を可能にし、在庫効率を向上させます。調整可能な窒素フローにより、ユーザーは特定のニーズに応じた保管条件をカスタマイズでき、安定した低酸素環境を維持します。 高精度産業に最適なこのキャビネットは、安全で信頼性の高いフォトマスクの保管を保証し、環境要因による損傷を防ぎます。高度な機能を備えたこのキャビネットは、汚染のないフォトマスク保管のための必須ソリューションです。
詳細RFIDレティクルストレージドライエアキャビネット
BM1481-1
RFIDレティクルストレージドライエアキャビネット(RFIDマスクボックス)は、半導体業界向けに設計された専門的な装置で、フォトマスクの保管と管理に特化しています。フォトマスクは、半導体ウエハ上に回路パターンを定義するためにフォトリソグラフィプロセスで使用される重要なコンポーネントです。その精度と高コストのため、フォトマスクは安全に保管され、正確に管理される必要があります。 RFIDレティクルストレージドライエアキャビネットは、無線周波数識別(RFID)技術を利用して、フォトマスクの自動識別、追跡、管理を可能にします。
詳細9インチRFID統合レチクルストレージキャビネット
PS0001
9インチRFID統合レティクルストレージキャビネットは、高頻度の運用環境におけるマスクストレージのニーズに合わせたシンプルでありながら効率的なデザインを特徴としています。そのオープンアーキテクチャにより迅速なアクセスが可能になり、作業効率が向上し、運用中の複雑さを効果的に軽減します。 RFID出入り管理システムを搭載しており、正確なマスクの追跡と管理が可能で、各取り出しと保管が簡単に記録され、管理の正確性とセキュリティが向上します。 この照準器収納ユニットは湿度制御機能を含まないため、より柔軟な要件のある環境に適しています。追加の湿度制御システムなしで基本的な収納スペースを提供し、一般的な収納環境に最適です。
詳細
9インチレティクルポッドストレージラック – BOSSMENによる精密湿度制御
9インチレティクルポッドストレージラックは、敏感な材料、電子機器、および機器を湿気による損傷から保護するように設計されています。BOSSMENは、製造、研究所、研究施設における信頼性を確保するために、安定した相対湿度(RH)レベルを維持する高度な湿度制御システムを統合しています。
精密さと耐久性を考慮して設計された9インチレティクルポッドストレージラックは、長期的なストレージおよびプロセス環境において一貫したパフォーマンスを提供します。クリーンルームから品質ラボまで、BOSSMEN製品は、厳しい環境基準を遵守しながら、腐食、酸化、ESDリスクを軽減するのに役立ちます。
9インチレティクルポッドストレージラックがあなたのワークフローにおける生産性と保存をどのように向上させるかを発見してください。各ユニットは、産業および実験室の用途における革新、安全性、測定可能な価値を組み合わせた、BOSSMENの30年にわたる湿度制御の専門知識を反映しています。









