特徴

• 上部密閉ゾーンと窒素充填：ストレージキャビネットの上部は、単一フォトマスクポッドの保管専用に密閉ゾーンが設計されています。全体が窒素で充填されており、最適な湿気保護を確保しています。さらに、統合された温度および湿度監視システムが環境の変化を常にチェックし、安定した保管条件を維持します。
• 下部オープンエリアとPODストレージ：下部オープンエリアには最大5つのPODを収容でき、各FOUPは個別に窒素で充填されており、各製品が最適な保護を受けられるようになっています。
• リアルタイムモニタリングと窒素フローディスプレイ：パネルは各下部コンパートメントの総窒素フローを表示します。ストレージスロットにFOUPが存在しない場合、窒素充填は自動的に停止し、安全性と効率を向上させるスマート管理を可能にします。

アプリケーション

• 高度にカスタマイズされたデザイン：異なるニーズに基づいて、フォトマスクキャビネットは異なる数量のフォトマスクを収納できるようにカスタマイズされ、キャビネットの構造に合わせて調整され、さまざまな規模や生産環境の要求に応える最適な収納ソリューションを提供します。
• 精密な保護と安定した環境制御：内部は正確な湿度調整が可能で、フォトマスクを効果的に保護するための静電気防止設計が施されており、汚染や静電気が品質に影響を与えないようにし、安定したフォトマスクの性能を確保します。
• 作業効率の向上：フォトマスクキャビネットは便利な収納スペースと操作設計を提供し、フォトマスクに迅速にアクセスして保管することが容易になり、作業効率を向上させ、生産プロセスの遅延を減少させます。
• 信頼性と長期保護：キャビネットは頑丈な構造で作られており、外部環境の変化によるフォトマスクの損傷を防ぐ優れた保護効果を維持しながら、長期的な耐久性を確保しています。

利点

• これらの利点により、フォトマスクキャビネットは半導体、オプトエレクトロニクス、精密製造業界において不可欠な設備となり、生産効率を向上させると同時に運用コストを大幅に削減します。

ギャラリー

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  BM1296-2。

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