Sistem Penyimpanan Fotomask, Kabinet Penyimpanan Fotomask Nitrogen Bersih

Kabinet Penyimpanan Nitrogen Pod Reticle Serbaguna

Kabinet Penyimpanan Nitrogen Pod Reticle Serbaguna - Kabinet Penyimpanan Nitrogen Pod Reticle Serbaguna
  • Kabinet Penyimpanan Nitrogen Pod Reticle Serbaguna - Kabinet Penyimpanan Nitrogen Pod Reticle Serbaguna

Kabinet Penyimpanan Nitrogen Pod Reticle Serbaguna

BM1296-2

Sistem Penyimpanan Fotomask, Kabinet Penyimpanan Fotomask Nitrogen Bersih

Photomask sangat penting dalam pembuatan semikonduktor untuk mentransfer pola sirkuit ke wafer. Setiap cacat pada photomask dapat direplikasi di seluruh wafer, yang secara langsung mempengaruhi hasil. Seiring dengan menyusutnya dimensi pola, photomask menjadi semakin sensitif terhadap partikel dan kontaminasi kimia.

 

Lingkungan penyimpanan nitrogen yang bersih dan terkontrol sangat penting untuk menjaga stabilitas fotomask jangka panjang, membantu mengurangi kontaminasi, oksidasi, dan degradasi.

 

Kabinet Penyimpanan Nitrogen Pod Reticle Serbaguna BOSSMEN memberikan kontrol lingkungan yang tepat dan stabil, menjadikannya ideal untuk fotomask dan pod wafer yang memerlukan kondisi penyimpanan yang sangat terkontrol.

Fitur
  • Zona Kedap Udara Atas dan Pengisian Nitrogen: Bagian atas lemari penyimpanan dirancang dengan zona kedap udara khusus untuk penyimpanan pod fotomask tunggal. Seluruh area diisi dengan nitrogen untuk memastikan perlindungan kelembapan yang optimal. Selain itu, sistem pemantauan suhu dan kelembapan terintegrasi secara terus-menerus memeriksa perubahan lingkungan untuk menjaga kondisi penyimpanan yang stabil.
  • Area Terbuka Bawah dan Penyimpanan POD: Area terbuka bawah dapat menampung hingga lima POD, dengan setiap FOUP diisi secara individu dengan nitrogen untuk memastikan setiap produk menerima perlindungan terbaik.
  • Pemantauan Waktu Nyata dan Tampilan Aliran Nitrogen: Panel menampilkan total aliran nitrogen untuk setiap kompartemen bawah. Ketika tidak ada FOUP yang hadir di slot penyimpanan, pengisian nitrogen secara otomatis berhenti, memungkinkan manajemen cerdas untuk meningkatkan keselamatan dan efisiensi.
Aplikasi
  • Desain yang Sangat Kustom: Berdasarkan kebutuhan yang berbeda, kabinet fotomask dapat disesuaikan untuk menyimpan berbagai jumlah fotomask dan disesuaikan dengan struktur kabinet, menawarkan solusi penyimpanan terbaik untuk memenuhi tuntutan berbagai skala dan lingkungan produksi.
  • Perlindungan Presisi dan Kontrol Lingkungan yang Stabil: Bagian dalam memungkinkan penyesuaian kelembapan yang tepat dan memiliki desain anti-statis untuk melindungi fotomasker secara efektif, mencegah kontaminasi dan listrik statis mempengaruhi kualitasnya, memastikan kinerja fotomasker yang stabil.
  • Peningkatan Efisiensi Kerja: Lemari fotomask menyediakan ruang penyimpanan yang nyaman dan desain operasional, memudahkan akses dan penyimpanan fotomask dengan cepat, meningkatkan efisiensi operasional dan mengurangi keterlambatan dalam proses produksi.
  • Keandalan dan Perlindungan Jangka Panjang: Lemari ini dibangun dengan struktur yang kokoh, memastikan daya tahan jangka panjang sambil mempertahankan efek perlindungan yang sangat baik untuk mencegah fotomask dari kerusakan akibat perubahan lingkungan eksternal.
Manfaat
  • Keuntungan ini menjadikan kabinet fotomask sebagai peralatan yang sangat penting dalam industri semikonduktor, optoelektronik, dan manufaktur presisi, meningkatkan efisiensi produksi sambil secara signifikan mengurangi biaya operasional.
Spesifikasi Produk
ModelKabinet Penyimpanan Nitrogen Reticle Serbaguna
BM1296-2
Dimensi Eksternal (mm)W1500 × H1901 × D700
Barang PenyimpananPod Photomask, Pod Transportasi Wafer
Rentang Tampilan Suhu0,1 °C hingga 99,9 °C ± 1 °C
Rentang Kontrol Kelembapan1% RH hingga 60% RH ± 3% RH
Konsumsi Daya16 W
KapasitasTingkat Atas: 60 Pod Fotomask
Tingkat Bawah: 15 Pod Transport Wafer
Catu Daya110 V / 240 V
Frekuensi50 Hz / 60 Hz
Galeri
Produk Terkait
Lemari Penyimpanan Nitrogen Mask - Lemari Penyimpanan Nitrogen Mask, menyediakan lingkungan penyimpanan yang stabil dan bebas debu untuk retikel.
Lemari Penyimpanan Nitrogen Mask
BM1133-2

Dirancang untuk aplikasi semikonduktor dan optoelektronik, Kabinet Penyimpanan Nitrogen Mask...

rincian
Kabinet Nitrogen Pod Reticle Skala Nano - Kabinet Nitrogen Pod Reticle Nanoscale, menyediakan lingkungan penyimpanan yang stabil dan bebas debu untuk reticle.
Kabinet Nitrogen Pod Reticle Skala Nano
BM1238, BM1273

Dirancang untuk penyimpanan fotomask semikonduktor canggih dan EUV, kabinet ini menyediakan...

rincian
Kabinet Penyimpanan Nitrogen Reticle Pod dengan FFU & Filter ULPA - Kabinet Nitrogen Reticle Pod FFU + ULPA dirancang untuk penyimpanan reticle yang presisi, menawarkan lingkungan yang bersih dan stabil.
Kabinet Penyimpanan Nitrogen Reticle Pod dengan FFU & Filter ULPA
BM1277

Lemari Penyimpanan Nitrogen Reticle Pod dengan FFU & Filter ULPA dirancang untuk melindungi...

rincian
Kabinet Penyimpanan Nitrogen Pod Reticle Serbaguna - Kabinet Penyimpanan Nitrogen Pod Reticle Serbaguna
Kabinet Penyimpanan Nitrogen Pod Reticle Serbaguna
BM1296-2

Photomask sangat penting dalam pembuatan semikonduktor untuk mentransfer pola sirkuit ke wafer....

rincian
Kabinet Nitrogen Pod Reticle Bebas Partikel - Kabinet Nitrogen Pod Reticle Bebas Partikel secara terus-menerus menyaring dan mengalirkan udara bersih melalui sistem udara kembali yang efisien.
Kabinet Nitrogen Pod Reticle Bebas Partikel
BM1305

Di dalam Kabinet Nitrogen Pod Reticle Bebas Partikel, sistem udara kembali terus-menerus mengedarkan...

rincian
Rak Penyimpanan Pod Reticle 9 inci - Rak Penyimpanan Terbuka Pod Reticle 9" menyediakan ruang penyimpanan yang rapi dan mudah diakses untuk pod fotomask.
Rak Penyimpanan Pod Reticle 9 inci
BM1307

BOSSMEN Rak Penyimpanan Pod Reticle 9″ memiliki desain terbuka yang khusus dibuat untuk menyimpan...

rincian
Kabinet Nitrogen Pod Reticle Bebas Partikel - Aliran nitrogen internal dapat disesuaikan, dan desain bebas debu melindungi fotomask dari kelembapan dan oksidasi.
Kabinet Nitrogen Pod Reticle Bebas Partikel
BM1324-2

Kabinet Nitrogen Pod Reticle Bebas Partikel memberikan perlindungan optimal untuk fotomask...

rincian
Lemari Udara Kering Penyimpanan Reticle RFID - Lemari Nitrogen Pod Reticle Bebas Partikel memungkinkan identifikasi otomatis, pelacakan, dan manajemen reticle.
Lemari Udara Kering Penyimpanan Reticle RFID
BM1481-1

Kabinet Penyimpanan Udara Kering Reticle RFID (Kotak Mask RFID) adalah perangkat khusus yang...

rincian
Kabinet Penyimpanan Reticle Terintegrasi RFID 9" - Sistem penyimpanan reticle yang sederhana dan efisien, cocok untuk lingkungan operasi frekuensi tinggi.
Kabinet Penyimpanan Reticle Terintegrasi RFID 9"
PS0001

Lemari Penyimpanan Reticle Terintegrasi RFID 9" memiliki desain yang sederhana namun efisien,...

rincian

Kabinet Penyimpanan Nitrogen Pod Reticle Serbaguna – Kontrol Kelembapan Presisi oleh BOSSMEN

Kabinet Penyimpanan Nitrogen Pod Reticle Serbaguna dirancang untuk melindungi bahan sensitif, elektronik, dan instrumen dari kerusakan akibat kelembapan.BOSSMEN mengintegrasikan sistem kontrol kelembaban canggih untuk menjaga tingkat RH yang stabil, memastikan keandalan dalam manufaktur, laboratorium, dan fasilitas penelitian.

Dirancang dengan presisi dan daya tahan, Kabinet Penyimpanan Nitrogen Pod Reticle Serbaguna menawarkan kinerja yang konsisten untuk penyimpanan jangka panjang dan lingkungan proses.Dari ruang bersih hingga laboratorium kualitas, produk BOSSMEN membantu pengguna mengurangi risiko korosi, oksidasi, dan ESD sambil mempertahankan kepatuhan terhadap standar lingkungan yang ketat.

Temukan bagaimana Kabinet Penyimpanan Nitrogen Pod Reticle Serbaguna meningkatkan produktivitas dan pelestarian dalam alur kerja Anda.Setiap unit mencerminkan pengalaman pengendalian kelembapan selama tiga puluh tahun dari BOSSMEN, menggabungkan inovasi, keselamatan, dan nilai yang terukur untuk aplikasi industri dan laboratorium.