Kabinet Nitrogen Pod Reticle Skala Nano

BM1238, BM1273

Sistem Penyimpanan Reticle Bebas Debu, Kabinet Penyimpanan Reticle Bersih Efisiensi Tinggi

Dirancang untuk penyimpanan fotomask semikonduktor canggih dan EUV, kabinet ini menyediakan lingkungan nitrogen bersih Kelas 1 dengan kelembaban rendah untuk melindungi masker dari kontaminasi, kerusakan, dan oksidasi.

Tanyakan Sekarang

Dengan aliran udara XCDA otomatis, kontrol FFU berbasis oksigen, dan distribusi nitrogen multi-lapis, memastikan kondisi penyimpanan yang stabil. Filtrasi ULPA terintegrasi dan pemantauan kelembaban / suhu secara real-time menjaga kualitas masker.
Ideal untuk pabrik EUV, logika dan memori, kemasan canggih, dan MEMS. Modular dan efisien energi, ini adalah solusi kunci untuk produksi dengan hasil tinggi dan keandalan tinggi.

Fitur

Material dan Desain: Terbuat dari stainless steel SUS 304 dengan permukaan yang dipoles, menawarkan ketahanan terhadap korosi. Dilengkapi dengan jendela kaca, roda rem beban tinggi, dan kaki penyeimbang untuk memberikan desain struktural yang stabil dan tahan lama.
Penyesuaian Aliran Nitrogen: Sumber udara masuk dapat dipilih antara nitrogen dan XCDA (udara kering), menyediakan opsi sumber gas yang fleksibel.
Manajemen Penyimpanan dan Akses Reticle: Dilengkapi dengan pembaca kartu kontrol akses dan sistem RFID yang dapat diprogram untuk mengelola penyimpanan dan pengambilan reticle secara efektif, meningkatkan keamanan dan akurasi.
Pemantauan Aliran Nitrogen Mandiri: Setiap pod reticle dapat memantau aliran nitrogen secara mandiri dan melaporkan data, memanfaatkan desain hemat energi yang ramah lingkungan untuk mengurangi konsumsi nitrogen yang tidak perlu.
Desain Kabinet: Dilengkapi dengan filter ULPA dan filter kimia, menampilkan desain bersih tahan debu dengan tekanan positif untuk mencegah kontaminan masuk secara efektif.
Pemantauan Suhu dan Kelembaban: Memungkinkan pengaturan, pencatatan, alarm, dan kalibrasi offset suhu dan kelembaban, dengan rentang penyesuaian kelembaban 5%-60% RH.
Fungsi Alarm: Ketika ada ketidaknormalan selama penempatan atau pengambilan pod reticle, sistem akan memicu alarm dan mencatat kejadian untuk memastikan operasi yang tepat.
Mode Keamanan: Dilengkapi dengan alarm untuk waktu pintu terbuka yang melebihi batas, kelembaban tinggi, dan konsentrasi oksigen yang berlebihan, memberikan perlindungan keselamatan yang komprehensif.
Spesifikasi Daya: Mendukung suplai daya 110V/240V, 50-60Hz, memenuhi standar internasional dan cocok untuk berbagai kebutuhan industri.
Sistem Pasokan Gas: Ketika aliran udara FFU diaktifkan, pengambilan XCDA secara otomatis mulai, memastikan udara kering mengalir ke dalam sistem.
Asupan dan Konfirmasi Nitrogen (N2): Nitrogen melewati pemurni nitrogen dan kemudian didistribusikan ke setiap pod retikulum dalam lapisan. Pipa keluaran dilengkapi dengan sensor suhu dan kelembapan untuk memantau aliran nitrogen dan memastikan kondisi penyimpanan yang stabil untuk fotomask.
Unit Kipas Filter yang Dapat Diprogram (FFU): Kondisi aktivasi FFU diatur berdasarkan tingkat konsentrasi oksigen, memastikan filtrasi dan sirkulasi udara yang tepat.
Filter Kimia: Secara efektif menyaring kontaminan kimia seperti ion karbonat, sulfida, dan amonia dalam udara kering, melindungi fotomask dari polusi.
Filter Udara (ULPA): Mampu menyaring partikel ultrafine, mencapai tingkat kebersihan Kelas 1, menyediakan lingkungan bebas debu.
Penyaring Nitrogen: Menyaring kontaminan kimia seperti ion karbonat, sulfida, dan amonia dari nitrogen, memastikan lingkungan penyimpanan tetap dalam keadaan paling murni.

Manfaat

Lingkungan Penyimpanan Bersih Nanoscale untuk Melindungi Kualitas Photomask: Dilengkapi dengan sistem filtrasi efisiensi tinggi ULPA, mencapai kebersihan Kelas 1, secara efektif mengisolasi partikel dan kontaminan di udara untuk memastikan photomask tetap tidak terpengaruh oleh faktor lingkungan eksternal selama penyimpanan.
Kontrol Gas Otomatis untuk Kelembapan dan Kebersihan yang Stabil: Desain distribusi pemurnian nitrogen dan intake otomatis XCDA, dikombinasikan dengan sensor suhu, kelembapan, dan kontrol konsentrasi O₂, secara terus-menerus memantau dan menyesuaikan kondisi penyimpanan untuk mencegah degradasi fotomask akibat paparan kelembapan atau oksigen.
Operasi Hemat Energi untuk Mengurangi Konsumsi Nitrogen: Sistem kontrol FFU cerdas yang terintegrasi diaktifkan berdasarkan konsentrasi oksigen waktu nyata, dan desain modular mengoptimalkan jalur aliran udara, memaksimalkan penghematan nitrogen dan efisiensi energi.

Spesifikasi Produk

Model	Kabinet Nitrogen Pod Reticle Skala Nano BM1283-2	Kabinet Nitrogen Pod Reticle Skala Nano BM1273
Dimensi Eksternal (mm)	W2800 x H2150 x D750	W1800 x H2071 x D550
Isi yang Disimpan	RSP200 atau EVU POD
Tampilan Suhu	0.1°C ~ 99.9°C ± 1°C
Rentang Kontrol Kelembapan	5%RH ~ 60% ± 3%RH
Kapasitas	40PCS	8PCS
Tegangan	110V/240V
Frekuensi	50Hz/60Hz

Galeri

Kabinet Nitrogen Pod Reticle Skala Nano BM1273.
Kabinet Nitrogen Reticle Pod Nanoscale cocok untuk menyimpan kotak reticle RSP200 atau EVU POD.
Kabinet Nitrogen Reticle Pod Nanoscale terbuat dari stainless steel SUS 304 dengan ketahanan korosi.
Kabinet Nitrogen Pod Reticle Skala Nano BM1238.
Kabinet Nitrogen Reticle Pod Nanoscale dilengkapi dengan sistem RFID untuk mengelola penyimpanan dan pengambilan reticle.
Kabinet Nitrogen Reticle Pod Nanoscale dilengkapi dengan filter ULPA dan filter kimia.

Produk Terkait