Kabinet Nitrogen Pod Reticle Nanoscale

BM1238, BM1273

Sistem Penyimpanan Reticle Bebas Habuk, Kabinet Penyimpanan Reticle Bersih Berkecekapan Tinggi

Direka untuk penyimpanan semikonduktor maju dan fotomask EUV, kabinet ini menyediakan persekitaran nitrogen bersih Kelas 1 dengan kelembapan rendah untuk melindungi mask daripada pencemaran, kerosakan, dan pengoksidaan.

Inquire Now

Dengan aliran udara XCDA automatik, kawalan FFU berasaskan oksigen, dan pengagihan nitrogen berlapis, ia memastikan keadaan penyimpanan yang stabil. Penapisan ULPA yang terintegrasi dan pemantauan kelembapan / suhu masa nyata melindungi kualiti mask.
Ideal untuk EUV, kilang logik dan memori, pembungkusan maju, dan MEMS. Modular dan cekap tenaga, ia adalah penyelesaian utama untuk pengeluaran dengan hasil tinggi dan kebolehpercayaan tinggi.

Ciri-ciri

Bahan dan Reka Bentuk: Diperbuat daripada keluli tahan karat SUS 304 dengan permukaan yang digilap, menawarkan ketahanan terhadap kakisan. Dilengkapi dengan tingkap kaca, roda brek beban tinggi, dan kaki penyeimbang untuk memberikan reka bentuk struktur yang stabil dan tahan lama.
Pelarasan Aliran Nitrogen: Sumber pengambilan udara boleh dipilih antara nitrogen dan XCDA (udara kering), menyediakan pilihan sumber gas yang fleksibel.
Pengurusan Penyimpanan dan Akses Reticle: Dilengkapi dengan pembaca kad kawalan akses dan sistem RFID yang boleh diprogram untuk menguruskan penyimpanan dan pengambilan reticle dengan berkesan, meningkatkan keselamatan dan ketepatan.
Pemantauan Aliran Nitrogen Bebas: Setiap pod reticle boleh memantau aliran nitrogen secara bebas dan melaporkan data, menggunakan reka bentuk penjimatan tenaga mesra alam untuk mengurangkan penggunaan nitrogen yang tidak perlu.
Reka Bentuk Kabinet: Dilengkapi dengan penapis ULPA dan penapis kimia, menampilkan reka bentuk bersih tahan debu dengan tekanan positif untuk mencegah pencemaran daripada masuk.
Pemantauan Suhu dan Kelembapan: Membolehkan penetapan, rakaman, amaran, dan kalibrasi offset suhu dan kelembapan, dengan julat pelarasan kelembapan 5%-60% RH.
Fungsi Amaran: Apabila terdapat keabnormalan semasa penempatan atau pengeluaran pod reticle, sistem akan mengaktifkan amaran dan merekodkan kejadian untuk memastikan operasi yang betul.
Mod Keselamatan: Dilengkapi dengan amaran untuk masa pintu terbuka melebihi had, kelembapan tinggi, dan kepekatan oksigen yang berlebihan, memberikan perlindungan keselamatan yang menyeluruh.
Spesifikasi Kuasa: Menyokong bekalan kuasa 110V/240V, 50-60Hz, memenuhi piawaian antarabangsa dan sesuai untuk pelbagai keperluan industri.
Sistem Pembekalan Gas: Apabila aliran udara FFU diaktifkan, pengambilan XCDA secara automatik bermula, memastikan udara kering mengalir ke dalam sistem.
Pengambilan dan Pengesahan Nitrogen (N2): Nitrogen melalui penapis nitrogen dan kemudian diedarkan ke dalam setiap pod reticle dalam lapisan. Paip keluar dilengkapi dengan sensor suhu dan kelembapan untuk memantau aliran nitrogen dan memastikan keadaan penyimpanan yang stabil untuk fotomask.
Unit Kipas Penapis Boleh Diprogram (FFU): Keadaan pengaktifan FFU ditetapkan berdasarkan tahap kepekatan oksigen, memastikan penapisan dan peredaran udara yang tepat.
Penapis Kimia: Menapis dengan berkesan pencemar kimia seperti ion karbonat, sulfida, dan ammonia dalam udara kering, melindungi fotomask daripada pencemaran.
Penapis Udara (ULPA): Mampu menapis zarah halus ultra, mencapai tahap kebersihan Kelas 1, menyediakan persekitaran tanpa habuk.
Penyucian Nitrogen: Menapis pencemar kimia seperti ion karbonat, sulfida, dan ammonia daripada nitrogen, memastikan persekitaran penyimpanan kekal dalam keadaan paling tulen.

Manfaat

Persekitaran Penyimpanan Bersih Nanoscale untuk Melindungi Kualiti Photomask: Dilengkapi dengan sistem penapisan kecekapan tinggi ULPA, mencapai kebersihan Kelas 1, secara berkesan mengasingkan zarah dan pencemar yang terbang untuk memastikan photomask tidak terjejas oleh faktor persekitaran luar semasa penyimpanan.
Pengawalan Gas Automatik untuk Kelembapan Stabil dan Kebersihan: Reka bentuk pengambilan automatik XCDA dan pengedaran penulenan nitrogen, digabungkan dengan sensor suhu, kelembapan, dan kawalan kepekatan O₂, sentiasa memantau dan menyesuaikan keadaan penyimpanan untuk mencegah kemerosotan fotomask akibat pendedahan kepada kelembapan atau oksigen.
Operasi Berkesan Tenaga untuk Mengurangkan Penggunaan Nitrogen: Sistem kawalan FFU pintar terbina dalam diaktifkan berdasarkan kepekatan oksigen masa nyata, dan reka bentuk modular mengoptimumkan laluan aliran udara, memaksimumkan penjimatan nitrogen dan kecekapan tenaga.

Spesifikasi Produk

Model	Kabinet Nitrogen Pod Retikel Nanoscale BM1283-2	Kabinet Nitrogen Pod Retikel Nanoscale BM1273
Dimensi Luaran (mm)	W2800 x H2150 x D750	W1800 x H2071 x D550
Kandungan Disimpan	RSP200 atau EVU POD
Paparan Suhu	0.1°C ~ 99.9°C ± 1°C
Julat Kawalan Kelembapan	5%RH ~ 60% ± 3%RH
Kapasiti	40PCS	8PCS
Voltan	110V/240V
Frekuesi	50Hz/60Hz

Galeri

Kabinet Nitrogen Pod Reticle Nano Skala BM1273.
Kabinet Nitrogen Reticle Pod Nanoscale sesuai untuk menyimpan kotak reticle RSP200 atau EVU POD.
Kabinet Nitrogen Reticle Pod Nanoscale diperbuat daripada keluli tahan karat SUS 304 dengan ketahanan terhadap kakisan.
Kabinet Nitrogen Pod Reticle Nano Skala BM1238.
Kabinet Nitrogen Reticle Pod Nanoscale dilengkapi dengan sistem RFID untuk mengurus penyimpanan dan pengambilan reticle.
Kabinet Nitrogen Reticle Pod Nanoscale dilengkapi dengan penapis ULPA dan kimia.

Produk Berkaitan