Com fluxo de ar automatizado XCDA, controle de FFU baseado em oxigênio e distribuição de nitrogênio em múltiplas camadas, garante condições de armazenamento estáveis. A filtração ULPA integrada e o monitoramento em tempo real de umidade / temperatura protegem a qualidade das máscaras.
Ideal para fábricas de EUV, lógica e memória, embalagem avançada e MEMS. Modular e energeticamente eficiente, é uma solução chave para produção de alta produtividade e alta confiabilidade.

Recursos

• Material e Design: Feito de aço inoxidável SUS 304 com superfície polida, oferecendo resistência à corrosão. Equipado com uma janela de vidro, rodas de freio de alta carga e pés niveladores para proporcionar um design estrutural estável e durável.
• Ajuste do Fluxo de Nitrogênio: A fonte de entrada de ar pode ser escolhida entre nitrogênio e XCDA (ar seco), proporcionando opções flexíveis de fonte de gás.
• Gerenciamento de Armazenamento e Acesso a Retículas: Equipado com leitores de cartão de controle de acesso e um sistema programável RFID para gerenciar efetivamente as operações de armazenamento e recuperação de retículas, melhorando a segurança e a precisão.
• Monitoramento Independente do Fluxo de Nitrogênio: Cada módulo de retícula pode monitorar independentemente o fluxo de nitrogênio e relatar dados, utilizando um design ecológico de economia de energia para reduzir o consumo desnecessário de nitrogênio.
• Design do Armário: Equipado com filtros ULPA e filtros químicos, apresentando um design limpo à prova de poeira com pressão positiva para prevenir efetivamente a entrada de contaminantes.
• Monitoramento de Temperatura e Umidade: Permite a configuração, registro, alarme e calibração de compensação de temperatura e umidade, com uma faixa de ajuste de umidade de 5%-60% RH.
• Função de Alarme: Quando há uma anomalia durante a colocação ou remoção de módulos de retícula, o sistema acionará um alarme e registrará o evento para garantir a operação adequada.
• Modo de Segurança: Equipado com alarmes para tempo de abertura de porta excedendo limites, alta umidade e concentração excessiva de oxigênio, proporcionando proteção abrangente de segurança.
• Especificações de Energia: Suporta fonte de alimentação de 110V/240V, 50-60Hz, atendendo a padrões internacionais e adequado para diversas necessidades industriais.
• Sistema de Fornecimento de Gás: Quando o fluxo de ar do FFU é ativado, a entrada do XCDA inicia automaticamente, garantindo que o ar seco flua para o sistema.
• Ingestão e Confirmação de Nitrogênio (N2): O nitrogênio passa pelo purificador de nitrogênio e é então distribuído em camadas em cada cápsula de retículo. O tubo de saída é equipado com sensores de temperatura e umidade para monitorar o fluxo de nitrogênio e garantir condições de armazenamento estáveis para as fotomáscaras.
• Unidade de Ventilador com Filtro Programável (FFU): A condição de ativação do FFU é definida com base nos níveis de concentração de oxigênio, garantindo filtração e circulação de ar precisas.
• Filtro Químico: Filtra efetivamente contaminantes químicos como íons carbonato, sulfetos e amônia no ar seco, protegendo as fotomáscaras da poluição.
• Filtro de Ar (ULPA): Capaz de filtrar partículas ultrafinas, alcançando o nível de limpeza Classe 1, proporcionando um ambiente livre de poeira.
• Purificador de Nitrogênio: Filtra contaminantes químicos como íons carbonato, sulfetos e amônia do nitrogênio, garantindo que o ambiente de armazenamento permaneça em seu estado mais puro.

Benefício

• Ambiente de Armazenamento Limpo em Escala Nanométrica para Proteger a Qualidade da Fotomáscara: Equipado com um sistema de filtragem de alta eficiência ULPA, alcançando limpeza de Classe 1, isolando efetivamente partículas e contaminantes no ar para garantir que as fotomáscaras permaneçam inalteradas por fatores ambientais externos durante o armazenamento.
• Controle Automatizado de Gás para Umidade e Limpeza Estáveis: O design de distribuição de entrada automática e purificação de nitrogênio do XCDA, combinado com sensores de temperatura, umidade e controle de concentração de O₂, monitora e ajusta continuamente as condições de armazenamento para prevenir a degradação da fotomáscara devido à umidade ou exposição ao oxigênio.
• Operação Eficiente em Energia para Reduzir o Consumo de Nitrogênio: O sistema de controle inteligente FFU embutido é ativado com base na concentração de oxigênio em tempo real, e o design modular otimiza os caminhos de fluxo de ar, maximizando a economia de nitrogênio e a eficiência energética.

Galeria

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  Armário de Nitrogênio para Pod de Retícula em Escala Nanoscale BM1273.

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  O Armário de Nitrogênio para Pod de Retícula em Escala Nanoscale é adequado para armazenar caixas de retícula RSP200 ou EVU POD.

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  O Armário de Nitrogênio para Pod de Retícula em Escala Nanoscale é feito de aço inoxidável SUS 304 com resistência à corrosão.

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  Armário de Nitrogênio para Pod de Retícula em Escala Nanoscale BM1238.

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  O Armário de Nitrogênio para Pod de Retícula em Escala Nanoscale possui sistema RFID para gerenciar o armazenamento e a recuperação de retículas.

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  O Armário de Nitrogênio para Pod de Retícula em Escala Nanoscale possui filtros ULPA e químicos.