Gabinete de Armazenamento de Fotomáscaras Selado a Nitrogênio com RFID, Gabinete de Armazenamento de Fotomáscaras Livre de Poeira

O fluxo interno de nitrogênio é ajustável, e o design livre de poeira protege as fotomáscaras da umidade e da oxidação.

Gabinete de Nitrogênio para Pod de Retícula Livre de Partículas - O fluxo interno de nitrogênio é ajustável, e o design livre de poeira protege as fotomáscaras da umidade e da oxidação.
  • Gabinete de Nitrogênio para Pod de Retícula Livre de Partículas - O fluxo interno de nitrogênio é ajustável, e o design livre de poeira protege as fotomáscaras da umidade e da oxidação.

Gabinete de Nitrogênio para Pod de Retícula Livre de Partículas

BM1324-2

Gabinete de Armazenamento de Fotomáscaras Selado a Nitrogênio com RFID, Gabinete de Armazenamento de Fotomáscaras Livre de Poeira

O Armário de Nitrogênio para Pod de Retícula Livre de Partículas oferece proteção ideal para fotomáscaras em um ambiente limpo e controlado. Ele utiliza preenchimento de nitrogênio para prevenir umidade e oxidação, preservando a qualidade da fotomáscara e prolongando sua vida útil. O design livre de poeira garante um espaço de armazenamento livre de contaminantes.

Equipado com tecnologia RFID, o armário permite o rastreamento e gerenciamento fácil de fotomáscaras, melhorando a eficiência do inventário. O fluxo de nitrogênio ajustável permite que os usuários personalizem as condições de armazenamento para atender a necessidades específicas, mantendo um ambiente estável e com baixo teor de oxigênio.

Ideal para indústrias de alta precisão, este gabinete garante armazenamento seguro e confiável de fotomáscaras, enquanto previne danos de fatores ambientais. Com seus recursos avançados, é uma solução essencial para armazenamento de fotomáscaras livre de contaminação.

Recursos
  • Armário de Armazenamento: Atende aos padrões de sala limpa Classe 1, com um design de armário hermético que isola efetivamente a contaminação externa, garantindo um ambiente de armazenamento limpo.
  • Armazenamento de Pod para Fotomáscaras: Equipado com um design de prateleira estável, proporcionando um espaço de armazenamento seguro e organizado para prevenir danos às fotomáscaras.
  • Preenchimento de Nitrogênio para Controle de Umidade: O sistema interno de preenchimento de nitrogênio reduz efetivamente a umidade, prevenindo danos por umidade às fotomáscaras e garantindo qualidade estável.
  • Monitoramento de Temperatura e Umidade: Sistema de monitoramento de precisão embutido que rastreia e ajusta continuamente a temperatura e a umidade ambiental para manter condições de armazenamento estáveis.
  • Filtração FFU e ULPA: Equipado com unidades de filtragem de alta eficiência (FFU) e sistemas de filtração ULPA, proporcionando um espaço de armazenamento ultra-limpo que isola ainda mais substâncias nocivas.
  • Gestão de Código de Barras: Sistema de gestão de código de barras integrado para rastreamento preciso de materiais, permitindo fácil monitoramento do status das fotomáscaras e melhorando a eficiência da gestão.
Aplicação
  • Design Altamente Personalizado: O armário de fotomáscaras pode ser personalizado para acomodar diferentes quantidades de armazenamento e estruturas de armário, oferecendo a melhor solução de armazenamento para atender às necessidades de várias escalas e ambientes de produção.
  • Proteção de Precisão e Controle Ambiental Estável: O ambiente interno pode ser ajustado com precisão para a umidade, e o design eletrostático protege efetivamente as fotomáscaras, prevenindo contaminação e danos eletrostáticos, garantindo qualidade estável das fotomáscaras.
  • Melhoria da Eficiência do Trabalho: O armário para fotomáscaras oferece um espaço de armazenamento conveniente e um design ergonômico, facilitando o acesso rápido às fotomáscaras, aumentando a eficiência operacional e reduzindo atrasos durante o processo de produção.
  • Confiabilidade e Proteção a Longo Prazo: O armário para fotomáscaras possui uma estrutura robusta que mantém um excelente desempenho de proteção a longo prazo, prevenindo danos às fotomáscaras devido a mudanças ambientais externas.
Benefício
  • Essas vantagens tornam o armário de fotomáscaras uma peça de equipamento indispensável nos campos de fabricação de semicondutores, optoeletrônicos e produção de precisão, aumentando a eficiência da produção enquanto reduz significativamente os custos operacionais.
Especificações do Produto
ModeloArmário de Armazenamento de Nitrogênio com Retículo Limpo RFID
BM1324-2
Dimensões Externas (mm)W1800 × H2071 × D550
Itens de ArmazenamentoFotomáscaras, Pods de Quartzo
Faixa de Exibição de Temperatura0,1 °C a 99,9 °C ± 1 °C
Faixa de Controle de Umidade1% UR a 60% UR ± 3% UR
Capacidade88 Unidades
Fonte de Alimentação110 V / 240 V
Frequência50 Hz / 60 Hz
Galeria
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Gabinete de Nitrogênio para Pod de Retícula Livre de Partículas – Controle de Umidade de Precisão por BOSSMEN

O Gabinete de Nitrogênio para Pod de Retícula Livre de Partículas é projetado para proteger materiais sensíveis, eletrônicos e instrumentos contra danos por umidade.BOSSMEN integra sistemas avançados de controle de umidade para manter níveis estáveis de UR, garantindo confiabilidade na fabricação, laboratórios e instalações de pesquisa.

Projetado com precisão e durabilidade, o Gabinete de Nitrogênio para Pod de Retícula Livre de Partículas oferece desempenho consistente para ambientes de armazenamento e processamento a longo prazo.De salas limpas a laboratórios de qualidade, os produtos BOSSMEN ajudam os usuários a reduzir a corrosão, oxidação e riscos de ESD, mantendo a conformidade com rigorosos padrões ambientais.

Descubra como o Gabinete de Nitrogênio para Pod de Retícula Livre de Partículas melhora a produtividade e a preservação no seu fluxo de trabalho.Cada unidade reflete os trinta anos de experiência da BOSSMEN em controle de umidade, combinando inovação, segurança e valor mensurável para aplicações industriais e laboratoriais.