Armário de Armazenamento de Nitrogênio para Pod de Retícula Multiuso – Controle de Umidade de Precisão pela BOSSMEN
As máscaras fotográficas são essenciais na fabricação de semicondutores para transferir padrões de circuitos para os wafers. Qualquer defeito em uma máscara fotográfica pode ser replicado em todo o wafer, afetando diretamente o rendimento. À medida que as dimensões dos padrões diminuem, as máscaras fotográficas se tornam cada vez mais sensíveis a partículas e contaminação química.
Um ambiente de armazenamento de nitrogênio limpo e controlado é crítico para manter a estabilidade a longo prazo das fotomáscaras, ajudando a reduzir contaminação, oxidação e degradação.
O Armário de Armazenamento de Nitrogênio para Pod de Retícula BOSSMEN oferece controle ambiental preciso e estável, tornando-o ideal para fotomáscaras e pods de wafers que requerem condições de armazenamento altamente controladas.
Armário de Armazenamento de Nitrogênio para Pod de Retícula Multiuso
BM1296-2
Sistema de Armazenamento de Fotomáscaras, Armário de Armazenamento de Fotomáscaras em Nitrogênio Limpo
As máscaras fotográficas são essenciais na fabricação de semicondutores para transferir padrões de circuitos para os wafers. Qualquer defeito em uma máscara fotográfica pode ser replicado em todo o wafer, afetando diretamente o rendimento. À medida que as dimensões dos padrões diminuem, as máscaras fotográficas se tornam cada vez mais sensíveis a partículas e contaminação química.
Um ambiente de armazenamento de nitrogênio limpo e controlado é crítico para manter a estabilidade a longo prazo das fotomáscaras, ajudando a reduzir contaminação, oxidação e degradação.
O Armário de Armazenamento de Nitrogênio para Pod de Retícula BOSSMEN oferece controle ambiental preciso e estável, tornando-o ideal para fotomáscaras e pods de wafers que requerem condições de armazenamento altamente controladas.
Recursos
- Zona Superior Hermética e Preenchimento com Nitrogênio: A parte superior do armário de armazenamento é projetada com uma zona hermética especificamente para o armazenamento de um único pod de fotomáscara. Toda a área é preenchida com nitrogênio para garantir proteção ideal contra a umidade. Além disso, um sistema integrado de monitoramento de temperatura e umidade verifica constantemente as mudanças ambientais para manter condições de armazenamento estáveis.
- Área Aberta Inferior e Armazenamento de POD: A área aberta inferior pode acomodar até cinco PODs, com cada FOUP preenchido individualmente com nitrogênio para garantir que cada produto receba a melhor proteção.
- Monitoramento em tempo real e exibição do fluxo de nitrogênio: O painel exibe o fluxo total de nitrogênio para cada compartimento inferior. Quando nenhum FOUP está presente no slot de armazenamento, o preenchimento de nitrogênio para automaticamente, permitindo uma gestão inteligente para aumentar a segurança e a eficiência.
Aplicação
- Design Altamente Personalizado: Com base em diferentes necessidades, o armário de fotomáscaras pode ser personalizado para armazenar quantidades variadas de fotomáscaras e adaptado à estrutura do armário, oferecendo as melhores soluções de armazenamento para atender às demandas de diferentes escalas e ambientes de produção.
- Proteção de Precisão e Controle Estável do Ambiente: O interior permite um ajuste preciso da umidade e possui um design antiestático para proteger efetivamente as fotomáscaras, prevenindo a contaminação e a eletricidade estática de afetar sua qualidade, garantindo um desempenho estável das fotomáscaras.
- Melhoria da Eficiência do Trabalho: O armário para fotomáscaras oferece um espaço de armazenamento conveniente e um design operacional, facilitando o acesso e o armazenamento rápido das fotomáscaras, melhorando a eficiência operacional e reduzindo atrasos no processo de produção.
- Confiabilidade e Proteção a Longo Prazo: O armário é construído com uma estrutura robusta, garantindo durabilidade a longo prazo enquanto mantém excelentes efeitos de proteção para evitar que as fotomáscaras sejam danificadas devido a mudanças ambientais externas.
Benefício
- Essas vantagens tornam o armário de fotomáscaras uma peça de equipamento indispensável nas indústrias de semicondutores, optoeletrônica e manufatura de precisão, aumentando a eficiência da produção enquanto reduz significativamente os custos operacionais.
Especificações do Produto
| Modelo | Armário de Armazenamento de Nitrogênio com Retículo Multiuso BM1296-2 |
|---|---|
| Dimensões Externas (mm) | W1500 × H1901 × D700 |
| Itens de Armazenamento | Cápsulas de Fotomáscara, Cápsulas de Transporte de Wafer |
| Faixa de Exibição de Temperatura | 0,1 °C a 99,9 °C ± 1 °C |
| Faixa de Controle de Umidade | 1% UR a 60% UR ± 3% UR |
| Consumo de Energia | 16 W |
| Capacidade | Nível Superior: 60 Pods de Fotomáscara Nível Inferior: 15 Pods de Transporte de Wafer |
| Fonte de Alimentação | 110 V / 240 V |
| Frequência | 50 Hz / 60 Hz |
- Galeria
BM1296-2.
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O Armário de Armazenamento de Nitrogênio para Pod de Retícula Multiuso é projetado para proteger materiais sensíveis, eletrônicos e instrumentos contra danos por umidade.BOSSMEN integra sistemas avançados de controle de umidade para manter níveis estáveis de UR, garantindo confiabilidade na fabricação, laboratórios e instalações de pesquisa.
Projetado com precisão e durabilidade, o Armário de Armazenamento de Nitrogênio para Pod de Retícula Multiuso oferece desempenho consistente para ambientes de armazenamento e processamento a longo prazo.De salas limpas a laboratórios de qualidade, os produtos BOSSMEN ajudam os usuários a reduzir a corrosão, oxidação e riscos de ESD, mantendo a conformidade com rigorosos padrões ambientais.
Descubra como o Armário de Armazenamento de Nitrogênio para Pod de Retícula Multiuso melhora a produtividade e a preservação no seu fluxo de trabalho.Cada unidade reflete os trinta anos de experiência da BOSSMEN em controle de umidade, combinando inovação, segurança e valor mensurável para aplicações industriais e laboratoriais.