Armadio per azoto con reticolo su scala nanometrica

BM1238, BM1273

Sistema di Stoccaggio Reticolo Privo di Polvere, Armadio di Stoccaggio Reticolo Pulito ad Alta Efficienza

Progettato per lo stoccaggio di semiconduttori avanzati e maschere fotografiche EUV, questo armadio fornisce un ambiente di azoto a bassa umidità e Classe 1 pulito per proteggere le maschere da contaminazione, danni e ossidazione.

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Con flusso d'aria XCDA automatizzato, controllo FFU basato su ossigeno e distribuzione di azoto a più strati, garantisce condizioni di stoccaggio stabili. La filtrazione ULPA integrata e il monitoraggio in tempo reale di umidità / temperatura proteggono la qualità delle maschere.
Ideale per fabbriche EUV, logica e memoria, imballaggio avanzato e MEMS. Modulare ed energeticamente efficiente, è una soluzione chiave per una produzione ad alta resa e alta affidabilità.

Caratteristiche

Materiale e Design: Realizzato in acciaio inossidabile SUS 304 con superficie lucidata, offre resistenza alla corrosione. Dotato di una finestra in vetro, ruote freno ad alta capacità e piedi livellatori per fornire un design strutturale stabile e durevole.
Regolazione del Flusso di Azoto: La fonte di aspirazione dell'aria può essere scelta tra azoto e XCDA (aria secca), fornendo opzioni flessibili per la fonte di gas.
Gestione della Memoria e Accesso al Reticolo: Dotato di lettori di schede di controllo accessi e di un sistema RFID programmabile per gestire efficacemente le operazioni di stoccaggio e recupero del reticolo, migliorando la sicurezza e l'accuratezza.
Monitoraggio Indipendente del Flusso di Azoto: Ogni pod di reticolo può monitorare indipendentemente il flusso di azoto e riportare dati, utilizzando un design ecologico a risparmio energetico per ridurre il consumo non necessario di azoto.
Design del Mobile: Dotato di filtri ULPA e filtri chimici, presenta un design pulito a pressione positiva per prevenire efficacemente l'ingresso di contaminanti.
Monitoraggio di Temperatura e Umidità: Consente la regolazione, la registrazione, l'allerta e la calibrazione dell'offset di temperatura e umidità, con un intervallo di regolazione dell'umidità del 5%-60% RH.
Funzione di Allerta: Quando si verifica un'anomalia durante il posizionamento o la rimozione dei pod di reticolo, il sistema attiverà un allarme e registrerà l'evento per garantire un funzionamento corretto.
Modalità di Sicurezza: Dotato di allarmi per il superamento dei limiti di tempo di apertura della porta, alta umidità e concentrazione eccessiva di ossigeno, fornendo una protezione completa.
Specifiche di Alimentazione: Supporta alimentazione 110V/240V, 50-60Hz, soddisfacendo gli standard internazionali e adatta a varie esigenze industriali.
Sistema di fornitura di gas: Quando il flusso d'aria del FFU è attivato, l'ingresso XCDA si avvia automaticamente, garantendo che l'aria secca fluisca nel sistema.
Assunzione e Conferma di Azoto (N2): L'azoto passa attraverso il purificatore di azoto e viene poi distribuito in ciascun pod reticolare a strati. Il tubo di uscita è dotato di sensori di temperatura e umidità per monitorare il flusso di azoto e garantire condizioni di stoccaggio stabili per i fotomask.
Unità di Ventilazione con Filtro Programmabile (FFU): La condizione di attivazione del FFU è impostata in base ai livelli di concentrazione di ossigeno, garantendo una filtrazione e circolazione dell'aria precise.
Filtro Chimico: Filtra efficacemente i contaminanti chimici come ioni carbonato, solfuri e ammoniaca nell'aria secca, proteggendo le maschere fotografiche dall'inquinamento.
Filtro d'Aria (ULPA): Capace di filtrare particelle ultrafini, raggiungendo un livello di pulizia di Classe 1, fornendo un ambiente privo di polvere.
Purificatore di Azoto: Filtra i contaminanti chimici come ioni carbonato, solfuri e ammoniaca dall'azoto, garantendo che l'ambiente di stoccaggio rimanga nel suo stato più puro.

Vantaggio

Ambiente di Stoccaggio Pulito su Nanoscale per Proteggere la Qualità dei Fotomask: Dotato di un sistema di filtrazione ad alta efficienza ULPA, che raggiunge la pulizia di Classe 1, isolando efficacemente le particelle e i contaminanti nell'aria per garantire che i fotomask rimangano inalterati da fattori ambientali esterni durante lo stoccaggio.
Controllo automatico del gas per umidità stabile e pulizia: Il design di distribuzione dell'aspirazione automatica XCDA e della purificazione dell'azoto, combinato con sensori di temperatura, umidità e controllo della concentrazione di O₂, monitora e regola continuamente le condizioni di stoccaggio per prevenire la degradazione della fotomask a causa dell'esposizione all'umidità o all'ossigeno.
Operazione ad alta efficienza energetica per ridurre il consumo di azoto: il sistema di controllo intelligente FFU integrato si attiva in base alla concentrazione di ossigeno in tempo reale, e il design modulare ottimizza i percorsi dell'aria, massimizzando i risparmi di azoto e l'efficienza energetica.

Specifiche del Prodotto

Modello	Armadio per azoto del pod reticolo su scala nanometrica BM1283-2	Armadio per azoto del pod reticolo su scala nanometrica BM1273
Dimensioni Esterne (mm)	W2800 x H2150 x D750	W1800 x H2071 x D550
Contenuti Conservati	RSP200 o EVU POD
Display della temperatura	0.1°C ~ 99.9°C ± 1°C
Intervallo di Controllo dell'Umidità	5%RH ~ 60% ± 3%RH
Capacità	40PCS	8PCS
Tensione	110V/240V
Frequenza	50Hz/60Hz

Galleria

Cabinet per Pod Reticolo in Azoto Nanoscale BM1273.
Il Cabinet per Pod Reticolo in Azoto Nanoscale è adatto per conservare le scatole di reticolo RSP200 o EVU POD.
Il Cabinet per Pod Reticolo in Azoto Nanoscale è realizzato in acciaio inossidabile SUS 304 con resistenza alla corrosione.
Cabinet per Pod Reticolo in Azoto Nanoscale BM1238.
Il Cabinet per Pod Reticolo in Azoto Nanoscale è dotato di un sistema RFID per gestire la conservazione e il recupero dei reticoli.
Il Cabinet per Pod Reticolo in Azoto Nanoscale è dotato di filtri ULPA e chimici.