Staubfreies Retikel-Lagersystem, Hochleistungs-Reinretikellagerungsschrank

Stickstoffschrank für nanoskalige Retikels, der eine stabile und staubfreie Lagerumgebung für Retikels bietet.

Nanoskaliger Reticle Pod Stickstoffschrank - Stickstoffschrank für nanoskalige Retikels, der eine stabile und staubfreie Lagerumgebung für Retikels bietet.
  • Nanoskaliger Reticle Pod Stickstoffschrank - Stickstoffschrank für nanoskalige Retikels, der eine stabile und staubfreie Lagerumgebung für Retikels bietet.

Nanoskaliger Reticle Pod Stickstoffschrank

BM1238, BM1273

Staubfreies Retikel-Lagersystem, Hochleistungs-Reinretikellagerungsschrank

Entwickelt für die Lagerung fortschrittlicher Halbleiter und EUV-Fotomasken, bietet dieser Schrank eine Klasse 1 saubere, niederschwellige Stickstoffumgebung, um Masken vor Kontamination, Beschädigung und Oxidation zu schützen.

Mit automatisiertem XCDA-Luftstrom, sauerstoffbasierter FFU-Steuerung und mehrschichtiger Stickstoffverteilung sorgt es für stabile Lagerbedingungen. Integrierte ULPA-Filtration und Echtzeitüberwachung von Luftfeuchtigkeit / Temperatur schützen die Maskenqualität.
Ideal für EUV-, Logik- und Speicherfabriken, fortschrittliche Verpackungen und MEMS. Modular und energieeffizient, ist es eine Schlüsselösung für die Produktion mit hoher Ausbeute und hoher Zuverlässigkeit.

Funktionen
  • Material und Design: Hergestellt aus rostfreiem Stahl SUS 304 mit einer polierten Oberfläche, die Korrosionsbeständigkeit bietet. Ausgestattet mit einem Glasfenster, hochbelastbaren Bremsrädern und verstellbaren Füßen, um ein stabiles und langlebiges strukturelles Design zu gewährleisten.
  • Stickstoffflussanpassung: Die Luftansaugquelle kann zwischen Stickstoff und XCDA (trockene Luft) gewählt werden, was flexible Gasquellenoptionen bietet.
  • Retikelspeicherung und Zugangsmanagement: Ausgestattet mit Zugangskontrollkartenlesern und einem RFID-programmierbaren System zur effektiven Verwaltung der Retikelspeicher- und Abrufoperationen, was die Sicherheit und Genauigkeit verbessert.
  • Unabhängige Überwachung des Stickstoffflusses: Jeder Retikelpod kann den Stickstofffluss unabhängig überwachen und Daten melden, wobei ein umweltfreundliches energiesparendes Design verwendet wird, um unnötigen Stickstoffverbrauch zu reduzieren.
  • Schrankdesign: Ausgestattet mit ULPA-Filtern und chemischen Filtern, mit einem druckpositiven, staubdichten Reinigungsdesign, um effektiv zu verhindern, dass Verunreinigungen eindringen.
  • Temperatur- und Feuchtigkeitsüberwachung: Ermöglicht das Einstellen, Aufzeichnen, Alarmieren und Kalibrieren von Temperatur und Feuchtigkeit, mit einem Feuchtigkeitsanpassungsbereich von 5%-60% RH.
  • Alarmfunktion: Bei einer Abnormalität während der Platzierung oder Entfernung von Retikelpods wird das System einen Alarm auslösen und das Ereignis aufzeichnen, um einen ordnungsgemäßen Betrieb sicherzustellen.
  • Sicherheitsmodus: Ausgestattet mit Alarmen für Türöffnungszeiten, die die Grenzen überschreiten, hohe Luftfeuchtigkeit und übermäßige Sauerstoffkonzentration, bietet umfassenden Schutz.
  • Stromspezifikationen: Unterstützt 110V/240V, 50-60Hz Stromversorgung, erfüllt internationale Standards und ist für verschiedene industrielle Bedürfnisse geeignet.
  • Gasversorgungssystem: Wenn der FFU-Luftstrom aktiviert wird, startet der XCDA-Eingang automatisch und sorgt dafür, dass trockene Luft in das System strömt.
  • Stickstoff (N2) Aufnahme und Bestätigung: Stickstoff durchläuft den Stickstoffreiniger und wird dann in Schichten in jedes Retikelfach verteilt. Das Auslassrohr ist mit Temperatur- und Feuchtigkeitssensoren ausgestattet, um den Stickstofffluss zu überwachen und stabile Lagerbedingungen für die Fotomasken zu gewährleisten.
  • Programmierbare Filterlüftereinheit (FFU): Die FFU-Aktivierungsbedingung wird basierend auf der Sauerstoffkonzentration eingestellt und gewährleistet so eine präzise Luftfiltration und -zirkulation.
  • Chemischer Filter: Filtert effektiv chemische Verunreinigungen wie Carbonationen, Sulfide und Ammoniak in der trockenen Luft und schützt Fotomasken vor Verschmutzung.
  • Luftfilter (ULPA): In der Lage, ultrafeine Partikel zu filtern, erreicht es den Reinheitsgrad Klasse 1 und bietet eine staubfreie Umgebung.
  • Stickstoffreiniger: Filtert chemische Verunreinigungen wie Carbonationen, Sulfide und Ammoniak aus Stickstoff und sorgt dafür, dass die Lagerumgebung in ihrem reinsten Zustand bleibt.
Vorteil
  • Nanoskalige saubere Lagerumgebung zum Schutz der Photomaskenqualität: Ausgestattet mit einem ULPA-Hocheffizienzfiltersystem, das eine Sauberkeitsklasse von 1 erreicht, isoliert es effektiv luftgetragene Partikel und Verunreinigungen, um sicherzustellen, dass Photomasken während der Lagerung nicht von externen Umweltfaktoren beeinflusst werden.
  • Automatisierte Gasregelung für stabile Feuchtigkeit und Sauberkeit: Das XCDA-Design für automatische Ansaug- und Stickstoffreinigungsverteilung, kombiniert mit Temperatur-, Feuchtigkeits-Sensoren und O₂-Konzentrationsregelung, überwacht und passt kontinuierlich die Lagerbedingungen an, um eine Degradation der Fotomaske durch Feuchtigkeit oder Sauerstoffexposition zu verhindern.
  • Energieeffizienter Betrieb zur Reduzierung des Stickstoffverbrauchs: Das integrierte intelligente FFU-Steuerungssystem wird basierend auf der Echtzeit-Sauerstoffkonzentration aktiviert, und das modulare Design optimiert die Luftstromwege, maximiert die Stickstoffeinsparungen und die Energieeffizienz.
Produktspezifikationen
ModellNanoscale Reticle Pod Stickstoffschrank
BM1283-2
Nanoscale Reticle Pod Stickstoffschrank
BM1273
Äußere Abmessungen (mm)W2800 x H2150 x D750W1800 x H2071 x D550
Gelagerte InhalteRSP200 oder EVU POD
Temperaturanzeige0,1°C ~ 99,9°C ± 1°C
Feuchtigkeitsregelbereich5%RH ~ 60% ± 3%RH
Kapazität40STK8STK
Spannung110V/240V
Frequenz50Hz/60Hz
Galerie

Nanoskaliger Reticle Pod Stickstoffschrank – Präzise Feuchtigkeitskontrolle von BOSSMEN

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